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PS培養皿親水性等離子表面清洗機

簡(jiǎn)要描述：等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，也叫第四種狀態(tài)（通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在），是利用高壓電源在一定的壓力條件下對氣體施加足夠的能量而產(chǎn)生。PLASMA等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動(dòng)狀態(tài)的電子，處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基），離子化的原子、分子，未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。PS培養皿親水性等離子表面清洗機 TC處理儀

  • 產(chǎn)品型號：SPV-100
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間：2023-09-13
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：3829

詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)
應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子電源AC380V，50/60Hz，5線(xiàn)，50A
廠(chǎng)務(wù)排氣流量：2.0 m3/min外形尺寸900×1750×1000mm（寬×高×深）
腔體尺寸450×450×500mm（寬×高×深）功率0~600W
　　PS培養皿親水性等離子表面清洗機 TC處理儀
 
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　　一、激活鍵能-交聯(lián)作用：
 
　　PLASMA等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到樣品表面后，可以使樣品表面原有的化學(xué)鍵(C=C、C=O、C=N、Si-Si、Si-O等)產(chǎn)生斷裂，PLASMA等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結構，大大地激活了表面活性。
 

　　二、對材料表面轟擊刻蝕-物理作用
 
　　物理作用其反應機理主要是利用plasma等離子體里大量的離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著(zhù)在表面的原子打掉，不但清除了材料表面原有的污染物和雜質(zhì)，還會(huì )產(chǎn)生刻蝕作用，將材料表面變“粗糙”，形成許多微細坑洼、溝壑，增大了材料表面的比表面積，提高材料表面的潤濕性能。由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較長(cháng)，得到能量的累積，因而在物理撞擊時(shí)，離子的能量越高，越是有更多的能量作撞擊，所以若要以物理作用為主時(shí)，就必須控制在較低的壓力下進(jìn)行反應，為了保證真空等離子處理儀腔體內較低的壓力，需要持續通入空氣或者其他惰性氣體(氬氣、氦氣等)，這樣處理效果較好。物理作用下的等離子處理適用于玻璃、陶瓷、金屬等材料。
 

　　三、形成新的官能團-化學(xué)作用：
 
　　化學(xué)作用其反應機理主要是利用PS培養皿親水性等離子表面清洗機 TC處理儀里的自由基與材料表面產(chǎn)生化學(xué)反應，頻率和壓力較高時(shí)，對自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應為主時(shí)，就必須配備較高的頻率和較高的壓力來(lái)進(jìn)行反應。
 
　　在化學(xué)反應里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)、氨氣(NH3)等，這些氣體在真空等離子處理儀腔內反應成高活性的自由基，會(huì )在材料表面發(fā)生復雜的化學(xué)反應，引入新的官能團，如羥基(-OH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、醛基(-CHO)等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性，起到活化改性的作用?；瘜W(xué)作用下的等離子處理適用于塑料、高分子、油污、聚合物等材料。需要特別說(shuō)明的是有一些材料處理既需要物理作用，也需要化學(xué)作用，例如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，氧化銦錫(ITO)、硅片、PET薄膜、二氧化硅(SiO2)、PTFE、二硫化鉬等，這個(gè)時(shí)候應該選用等離子體激發(fā)頻率是13.56MHz的真空等離子處理儀。
 
　　四、PLASMA處理的方向性-粉末或細小顆粒：
 
　　Plasma清潔儀配備清洗托盤(pán)，把樣品放在托盤(pán)上，樣品朝上的一面等離子處理效果明顯，樣品貼著(zhù)托盤(pán)的一面處理效果不明顯，原因是等離子體需要空間讓其做高速運動(dòng)，而樣品貼著(zhù)托盤(pán)的那一面，空間變小，不利于等離子體對樣品表面進(jìn)行處理，所以樣品哪一面需要等離子處理，就把那一面朝上，如果兩面都需要等離子處理，常規的做法是待樣品的一面處理結束后，把樣品取出翻轉再進(jìn)行另一面的等離子處理，但如果樣品是粉末或者微小顆粒，這個(gè)方法就有局限性。
 
 
 

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